マスクレイアウトからLSI断面形状を高速シミュレーション
PARADISEWORD-2はNTT　LSI研究所で開発された、マスクパターンからULSIの断面形状をシミュレーションするツールです。   近年、LSIの高集積化に伴って、LSIの故障解析技術が重要になっています。   故障解析では、発光解析、熱解析等、各種の解析手法を用いて異常個所を特定し、異常が起こる原因と異常原因になるパターンの不良個所を、異常個所周辺のプロット図から推定します。しかし、平面上に書かれたパターン図から多層構造の断面形状状を描くためには、高度な経験とプロセスに関する知識が必要です。   PARADISEWORLD-2（PAttern Retrieval And DIagnosis SErver WORking for Lsi Development)は、断面構造を二次元および三次元で高速表示する目的で開発されたツールです。LSIパターンの設計情報と製造工程情報を投入するだけで、高精度なLSI断面構造のシミュレーションが迅速に実行できるため、パターン設計の検証、プロセス開発時の故障解析、さらにLSI設計製造の教育に適しています。   また、断面配線間の容量と配線抵抗を算出する機能がありますので回路設計支援ツールとしても有効です。
■ PARADISEWORLD-2の主な特長
指定切断位置および領域の断面形状を二次元、三次元でシミュレーションし高速に表示 ダスト、欠損を想定したシミュレーションが可能 指定切断位置のマスク層構成を表示 指定した配線の抵抗を算出 指定した配線間の容量を算出 任意電圧における電位分布計算 抵抗計算時の電流分布表示 α-SXシステムのエディタ（Ismo）上から起動し、編集途中のデータでシミュレーションが可能 JAVA環境で動作する三次元ビューワを用意 3次元の配線間容量を算出
	断面形状のシミュレーション
	マスクレイアウトの任意の切断面を製造工程表に従って、シミュレーションし表示できます。 α-SXのレイアウトパターン上で断面を表示する場所にカットライン（断面構造を表示させたい位置）を設定すると、その部分のLSI断面構造を表示します。α-SXから出力するレイアウトパターンデータとカットラインデータの他に、マスク作成の際の各設計レイアウトパターン間の演算処理（積、和、差、反転、太らせ、細らせ）を記述したレイヤデータ（レイヤ定義ファイル）と、各プロセスにおけるデポジション膜厚やエッチングレートを記述したプロセスデータ（レイヤ定義ファイルと対応するモデル群）を読み込んで、断面構造を生成し表示します。さらに、パターンのサイズ拡縮とアライメントシフトをフラクチュエーションデータ（フラクチュエーション定義ファイル）として設定することができます。
	ダスト、欠損のシミュレーション
	ダストの付着、パターン欠損を想定した断面形状の修正機能を有しています。これにより、プロセス工程におけるダスト等の影響をシミュレーションすることができます。
	マスク層表示
	α-SXのLSI設計レイアウトパターンデータの表示画面と連動して、LSIの任意断面におけるレイアウトパターンの層構成を表示します。 α-SXで断面位置を変更すれば、これに連動して表示が変わります。マスクのポジネガ反転表示もできます。
	配線間容量、抵抗の算出
	切断面形状から任意の配線間容量および配線抵抗を算出できます。さらに、任意電圧における電位分布計算や抵抗計算時の電流分布表示を行うことも出来ます。
	3次元形状シミュレーション
	カットエリア（3次元断面構造を表示させたい位置）から3次元形状をシミュレーションすることができます。これにより2次元の結果では得られない、切断面付近の形状および膜厚の変化を検証することができます。
	3次元形状表示（THRUSH）
	3次元形状をJAVA環境で表示するビューワを用意しています。これにより、Windows環境で3次元形状の検証を行うことが可能です。
	3次元配線間容量解析（CAT3D）
	3次元形状シミュレーション結果より、配線間の容量を算出し高精度な容量解析を行う事が可能です。
● 実績分野 PARADISEWORLD-2は以下の様々な分野で利用されています。 ULSI設計では存在しないような特殊プロセス形状もシミュレーションすることが可能です。 ULSI設計全般、液晶表示装置全般、磁気ヘッド設計などパターン設計のあらゆる分野